Научные эксперты из России заявили, что в ближайшие пять лет страна может представить свой первый промышленный литограф для производства микросхем. Согласно информации, полученной от научного руководителя Национального центра физики и математики, академика РАН Александра Сергеева, первый демонстрационный образец российского литографа будет готов в течение двух лет, а затем учёные планируют разработать промышленную версию установки в течение пяти лет.
Проект получил название «альфа-машина», и его задача показать, что все фрагменты технологии могут работать вместе: и источник рентгеновского излучения, рентгеновская оптика для правильной проекции на фоторезист, фоторезисты и систему позиционирования с нанометровой точностью.
Целевое разрешение этой технологии составляет 28 нанометров, но оно будет улучшаться постепенно. Сергеев отметил, что этот проект финансируется Росатомом из инвестиционных программ и получает активную поддержку правительства России.
Литография – это широко используемая технология для создания наноструктур. Изначально этот термин обозначал метод печати, где краска переносилась с плоской поверхности на другую под давлением. В микро- и наноэлектронике литография включает в себя создание рельефных рисунков на специальном чувствительном слое, известном как резист, на поверхности кремниевой подложки. Этот рисунок повторяет геометрию микросхем.
Фото: notebookcheck
ГОР